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高纯钼靶是AMOLED面板生产中的关键原材料之一，该公司的新产品是适用于TFT-LCD/AMOLED的超宽高纯高密钼平面溅射靶材，主要应用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填补了内宽幅钼靶(1800mm)空白，对公司未来的市场
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产品名称：钼靶材纯度:99.95%密度：≥10.2g/cm3尺寸范围：---(可根据客户需求定制）外观：在显微镜下观察，管子内外表面呈现出均匀的金属光泽，无氧化、氢化变色、划伤、变形、毛刺等用途：用于制作真空高炉用发热部件
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钼靶材物理性质： 密度：10.2克/立方厘米 熔点：2610℃ 沸点：5560℃ 钼靶材纯度：99.9%，99.99% 规格：圆形靶，板靶，旋转靶 纯度：纯钼≥99.95%，高温钼≥99%（添加稀土元素） 钼靶材供货情况：
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旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。在被溅射的靶(阴)与阳之间加个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气
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镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时
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产品名称：钼螺丝材质号：Mo1执行标准：GB/T5782-2000产品规格：∮3mm钼螺丝的状态：冷加工状态（Y）钼螺丝的表面：光亮表面、加工方法：机加工用途：钼螺丝螺母纯度99.95%以上，耐高温可达1600°-1700°以上，广泛用于航
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钼坩埚采用Mo－1钼粉生产而成，使用温度在1100℃~1700℃。主要应用于冶金工业、稀土行业、单晶硅、太阳能、人造晶体和机械加工等行业。分类钼坩锅的种类：机加坩埚、焊接坩埚、铆接坩埚、冲压坩埚。锻造钼坩埚机加工钼坩埚，焊接钼坩埚烧结钼坩埚
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品名：钼舟铆接钼舟焊接钼舟折叠钼舟冲压钼舟钼及其各种合金材质：号：361,364，MO1，TZM，MLa标准：ASTMB386-91，GB/T3876-83纯度：≥99.95%工艺：热轧，冷
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钼很坚硬，也很柔软，比钨有韧性。钼具有高弹性模量，钨，钽，只具有较高的熔点。钼板用于许多种钢。其他些常见的用途是钼电，真空炉应用，核能，导弹和飞机零部件。钼板厚度从00.090英寸到3英寸，被列为钼板。钼板广泛用于模具和零件炉建设，电子和半
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主要用途：用作合金及不锈钢的添加剂，广泛应用于宇航、兵器、电子、化工等域。高温钼条外观表面呈银灰色金属光泽。物理性能：具有熔点、沸点高，高温强度好，抗摩耐腐蚀，热传导率大，热膨胀系数小，淬透性好等优点，包装：外铁桶或木箱包装。化学成分：产品
